ಬಟ್ಟೆ ಸಂಸ್ಕರಣೆ

ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ನಾರುಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಬಾಗುವಿಕೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ನಾರುಗಳು ಬಿದ್ದು ಜವಳಿ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಮಾತ್ರೆಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುವ ಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಸಂಶ್ಲೇಷಿತ ನಾರುಗಳು ತೇವಾಂಶ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಶುಷ್ಕತೆ ಮತ್ತು ನಿರಂತರ ಘರ್ಷಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರ ವಿದ್ಯುತ್ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತವೆ. ಈ ಸ್ಥಿರ ವಿದ್ಯುತ್ ಬಟ್ಟೆಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿರುವ ಸಣ್ಣ ನಾರುಗಳು ಎದ್ದು ನಿಲ್ಲುವಂತೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಪಿಲ್ಲಿಂಗ್‌ಗೆ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಸೃಷ್ಟಿಸುತ್ತದೆ. ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಪಾಲಿಯೆಸ್ಟರ್ ಸುಲಭವಾಗಿ ವಿದೇಶಿ ಕಣಗಳನ್ನು ಆಕರ್ಷಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರ ವಿದ್ಯುತ್‌ನಿಂದ ಮಾತ್ರೆಗಳು ಸುಲಭವಾಗಿ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತವೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ನೂಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ಚಾಚಿಕೊಂಡಿರುವ ಮೈಕ್ರೋಫೈಬರ್‌ಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ನಾವು ಎಂಜೈಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಪಾಲಿಶಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಬಳಸುತ್ತೇವೆ. ಇದು ಬಟ್ಟೆಯ ಮೇಲ್ಮೈ ಅಸ್ಪಷ್ಟತೆಯನ್ನು ಬಹಳವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಬಟ್ಟೆಯನ್ನು ನಯವಾಗಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪಿಲ್ಲಿಂಗ್ ಅನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ. (ಎಂಜೈಮ್ಯಾಟಿಕ್ ಜಲವಿಚ್ಛೇದನೆ ಮತ್ತು ಯಾಂತ್ರಿಕ ಪ್ರಭಾವವು ಬಟ್ಟೆಯ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿರುವ ನಯಮಾಡು ಮತ್ತು ನಾರಿನ ತುದಿಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಒಟ್ಟಾಗಿ ಕೆಲಸ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಬಟ್ಟೆಯ ರಚನೆಯನ್ನು ಸ್ಪಷ್ಟಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಬಣ್ಣವನ್ನು ಪ್ರಕಾಶಮಾನಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ).

ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಬಟ್ಟೆಗೆ ರಾಳವನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದರಿಂದ ಫೈಬರ್ ಜಾರುವಿಕೆಯನ್ನು ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ರಾಳವು ನೂಲಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಸಮವಾಗಿ ಅಡ್ಡ-ಲಿಂಕ್ ಆಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಫೈಬರ್ ತುದಿಗಳು ನೂಲಿಗೆ ಅಂಟಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಘರ್ಷಣೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಪಿಲ್ಲಿಂಗ್ ಅನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ಇದು ಪಿಲ್ಲಿಂಗ್‌ಗೆ ಬಟ್ಟೆಯ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.